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题目是这样的:
; J5 x% V6 P3 O
6 r% v% r" ?2 G- I: J4 S6 H1 {
: a/ k8 a$ M) N( X" ~在T=300K时,在两块单晶硅A和B中分别均匀掺杂ND=1*1017cm-3和NA=1*1016cm-37 n- v j8 E# a
1.& t; ^+ h Y- ~7 H7 m
分别指出两种半导体的类型,并求出两种半导体中电子浓度和空穴浓度。 h. P1 f' G/ y: J
2.
0 ]% o: V( n8 O O) d6 ]如已知NC=2.8*1019,NV=1.04*1019,分别求出两种半导体的费米能级相对导带底或价带顶的位置。
- G9 b# Z# M e* \% R$ y7 a" g3.: H$ B% C+ }0 m- k" k9 w; v
如由这两种半导体形成PN结,求所形成的PN结的接触电位差。* O- X$ ]! w, T( ~
Ni=1.5*1010 cm-3 Vt=KBT/e=26mv- Y( D+ H' r* ~( l1 j- S, O# }& b
硅材料 Nc=2.8*10190 l- |. u/ _3 I% k u5 `
Nv=1.04*1019
! [9 h* N% e: Y4 V) k8 ye=1.6*10-19C
# _/ n4 O& Q9 U' _- O+ iKB=1.38*10-23J/K! ]) I! C3 N& {9 m
7 O* X$ s! U0 A7 O5 n, I
+ H2 t, j6 h. f3 D; y) ^
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; K% E) ]$ q5 r/ e/ }! w好同学帮帮我,我的QQ4600533,手机13282105885,当面酬谢了。 |
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