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题目是这样的: v& y0 [0 |8 q. x y8 w: L5 p
, p9 {% T$ Q t. T) @, |
; M2 @5 ~5 n- Q5 f
在T=300K时,在两块单晶硅A和B中分别均匀掺杂ND=1*1017cm-3和NA=1*1016cm-3! \: e+ H- S: j" @+ Y7 {" g: z) H8 o/ l
1.; S, J1 l* @1 m v
分别指出两种半导体的类型,并求出两种半导体中电子浓度和空穴浓度。
! T1 j" `3 W9 f4 b0 ~9 L1 h2.& g( A* F% l _; T$ u
如已知NC=2.8*1019,NV=1.04*1019,分别求出两种半导体的费米能级相对导带底或价带顶的位置。+ W' Z7 e/ A+ {0 l
3.
1 p3 H" w d! N% R7 t如由这两种半导体形成PN结,求所形成的PN结的接触电位差。% |) k# E8 s- M
Ni=1.5*1010 cm-3 Vt=KBT/e=26mv
4 ]- `: r7 p0 t: U' e* Z硅材料 Nc=2.8*1019
. S( n5 _6 T2 P; c X# ^1 |: hNv=1.04*1019
% Q' w+ }$ |9 ~5 b. I+ \0 D M, v7 Be=1.6*10-19C! m( ]; v" t5 [6 t# K, f& @: t, x
KB=1.38*10-23J/K
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