该用户从未签到
|
题目是这样的:
3 B/ Q5 _8 ]- t* C/ Q9 e% ?6 ~
8 f7 f1 E4 P) ^2 D7 Z
6 Q% G* i: d4 @; D( M% L在T=300K时,在两块单晶硅A和B中分别均匀掺杂ND=1*1017cm-3和NA=1*1016cm-3
* i1 W2 Z0 v3 E* D2 Q! m1.
4 M5 @0 F3 M0 ^6 P分别指出两种半导体的类型,并求出两种半导体中电子浓度和空穴浓度。: N# \- d; o+ R4 B! Q( o* A
2.
: c2 p) n' O0 H. J, `% A8 L; B; Q/ ?如已知NC=2.8*1019,NV=1.04*1019,分别求出两种半导体的费米能级相对导带底或价带顶的位置。
; A) N% E" d0 L6 |3.7 V: n0 ^) g. l3 N, h" I% u
如由这两种半导体形成PN结,求所形成的PN结的接触电位差。6 [& T/ ]/ A% |0 ^1 O3 h; F+ ^" F
Ni=1.5*1010 cm-3 Vt=KBT/e=26mv
8 F! l3 i) m$ U; e硅材料 Nc=2.8*1019' Z- _7 G; d5 f: L2 A6 p
Nv=1.04*1019+ y R' o# E, V
e=1.6*10-19C
3 V1 g& L0 @- f# Y9 h0 o; hKB=1.38*10-23J/K
% f3 {: K8 X5 x x2 W
: W# P% Z6 Q8 T6 y" O$ \% t
3 |5 y' @- N4 v/ n3 p, W, k& m; L, L8 N
1 ]0 x& Q: r6 u) W+ X* o% _
好同学帮帮我,我的QQ4600533,手机13282105885,当面酬谢了。 |
|